Portal informacyjny
Życie kampusu
UMK w rankingu szanghajskim
Uniwersytet Mikołaja Kopernika znalazł się na liście Academic Ranking of World Universities wśród tysiąca najlepszych uczelni na świecie. W najstarszym światowym rankingu w 2024 roku zostało sklasyfikowanych osiem polskich szkół wyższych.
Academic Ranking of World Universities (ARWU), nazywany rankingiem szanghajskim, jest uznawany za prekursora globalnych klasyfikacji. Spośród ponad 2,5 tysiąca notowanych w nim uczelni, publikowane jest zestawienie tysiąca najlepszych. Ranking ARWU jest przygotowywany przez Institute of Higher Education przy Uniwersytecie Jiao Tong w Szanghaju (stąd nazwa "ranking szanghajski").
ARWU w 2024 roku notuje osiem najlepszych polskich uczelni. W ubiegłym roku znalazło się w nim dziewięć szkół wyższych z Polski, a dwa lata temu - 11.
W tegorocznym zestawieniu, podobnie jak w ubiegłym roku, Uniwersytet Mikołaja Kopernika w Toruniu został sklasyfikowany w dziesiątej setce (miejsca 901-1000). W tym samym przedziale znalazły się również Uniwersytet im. Adama Mickiewicza w Poznaniu, Akademia Górniczo-Hutnicza w Krakowie, Politechnika Warszawska i Uniwersytet Medyczny we Wrocławiu. W zestawieniu ujęto także Uniwersytet Jagielloński i Uniwersytet Warszawski (przedział 401-500) oraz Politechnikę Gdańską (miejsca 801-900).
Podium światowego rankingu niezmiennie zajmują trzy amerykańskie uczelnie: Harvard University, Stanford University oraz Massachussets Institute of Technology.
Przygotowywane zestawienie uwzględnia osiągnięcia naukowe i badawcze uczelni wyższych. Twórcy ARWU, przygotowując coroczne rankingi, biorą pod uwagę obiektywne wskaźniki, w tym: międzynarodowe sukcesy naukowe, liczbę absolwentów i pracowników, którzy otrzymali Nagrodę Nobla lub Medal Fieldsa, liczbę najczęściej cytowanych naukowców na podstawie danych Clarivate, liczbę publikacji w prestiżowych czasopismach Nature oraz Science i liczbę publikacji wymienionych w wybranych indeksach cytowań (Science Citation Index - Expanded oraz Social Sciences Citation Index).
